RO膜系统不停机修复实例

笔者通过将10%的RODOMO++膜稳定配比到还原剂加药箱,与还原剂一起连续投加的方式，实现了RO系统不停机，一边连续运行制水一边逐渐降低产水电导率。

某中水回用RO系统因酸碱过度清洗造成产水电导率高，便运行制水边修复。

产水电导率由60多缓慢降至20多

某发电厂脱盐水系统，因氧化造成运行压力降低，产水电导高，经在线连续投加RODOMO++稳定剂数天后，脱盐率恢复。产水电导由44us/cm。降至23us/cm。

双级RO+EDI 提高Si02脱除率实例

火力发电厂的水质中二氧化硅含量是一个非常重要的指标，GB12145-2016等相关标准中对锅炉补给水硅含量做了严格控制≤20ug/L。采用反渗透+混床处理工艺因混床的特点决定，其进水(反渗透出水)硅含量范围较宽，但是增加的酸碱耗及产生大量的酸碱高盐废水。采用反渗透+电除盐EDI处理工艺，因EDI膜件的除硅率相对固定，随着运行年限的增加，除硅性能还会逐步下降，这样对进水(反渗透出水）硅含量则愈发严格，若反渗透系统产水硅含量超出EDI进水要求，则会出现EDI产水电阻率合格而硅超标的情况。由于硅超标则无法成为锅妒补给水，直接影响机组的安全可靠运行。

某电厂采用了超滤UF+一级RO+二级RO+EDI组合处理工艺流程。UF，一级RO，二级RO进行在线化学清洗，结束清洗投入运行。清洗结束后投入运行时F压差下降明显，RD系统除盐率有所下降，产水量有所上升。预脱盐系统清洗过后导致EDI系统产水二氧化硅有小幅的上升并超标(>20ug/L)，产水电阻率无明显变化。至6月份后，除盐水硅持续增大，电阻率无明显变化，通过运行调整及设备分析，均无法得到有效地改善，制水系统无法制备合格的除盐水。通过实验分析进出水硅含量，发现一级RO系统的除硅率低于70%，原水硅含量约10000~15000ug/L，其出水硅高达3000~4500ug/L，二级系统的除硅率约为85%，出水硅含量高达450～600ug/L，远大于EDI进水硅≤200ug/L的要求。

表1反渗透装置产水电导率及脱硅率(修复前)

表2反渗透装置产水电导率及脱硅率(修复后)

RODOMO膜件修复剂对反渗透膜件的脱盐率提升有一定的效果，脱硅率也得到了显著的提高。但是经过一段时间的运行后，膜件的脱盐率和脱硅率有逐步上升的趋势，运行三个多月效果仍比较显著。可以显著延长二级RO和EDI模块的使用寿命。